COATING SYSTEM

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코팅장비제작

COATING EQUIPMENT PRODUCTION

Ion Beam Sputter Coating System

Ion beam sputter를 이용한 다층 구조 광학 박막 코팅용 시스템

Ion-beam source에서 형성된 안정되고 강한 플라즈마(주로 불활성 Ar 이온)를 Sputter 표면에 가하면 매크로 입자가 거의 없는 매우 미세한 (high density) 타겟 이온 만이 Sputtering된다. 이러한 이온이 광학용, 미세용 혹은 다층 박막을 형성하게 된다

SPECIFICATIONS

APPLICATION Optical coating,Metal coating TiO2,SiO2,Al,Cu,Ti,Cr 등.
PlASMA SOURCE Ion Beam Sputter source Souce size - 380 X 100 mm or 840 X 100mm
COATING TARGET Multi-layer Max-4kinds of target control
UNIFORMITY >±3％ 70% of Source size
CHAMBER SIZE Batch type H 1000 x Φ 1000mm or H600 x Φ 800mm
PRODUCT LOADING Vertical type Rovolution and rotation
PROCESS CONTROL PC Window control Full automatic process and process data store
  • APPLICATION
  • Optical coating,Metal coating
  • TiO2,SiO2,Al,Cu,Ti,Cr 등
  • PlASMA SOURCE
  • Ion Beam Sputter source
  • Souce size - 380 X 100 mm or 840 X 100mm
  • COATING TARGET
  • Multi-layer
  • Max-4kinds of target control
  • UNIFORMITY
  • >±3％
  • 70% of Source size
  • CHAMBER SIZE
  • Batch type
  • H 1000 x Φ 1000mm or H600 x Φ 800mm
  • PRODUCT LOADING
  • Vertical type
  • Rovolution and rotation
  • PROCESS CONTROL
  • PC Window control
  • Full automatic process and process data store