COATING SYSTEM
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코팅장비제작
COATING EQUIPMENT PRODUCTION
DLC Coating System
Linear Ion-beam Source를 이용한 DLC, WCC코팅용 시스템
Ion-beam source는 좁은 트랙(애노드와 캐소드의 간격)에 높은 전기장 (수백~수천 V)을 가한다. 이때 고순도 가스를 트랙에 흐르게 하면 가스는 원자로 분해되며 이 현상으로 플라즈마(빛에너지)가 발생된다. 발생된 플라즈마는 전·자기장에 의해 외부로 곧고 강하게 방출된다. 이러한 원리의 Ion-beam source를 활용하여 DLC 박막이 형성한다
SPECIFICATIONS
| APPLICATION | DLC coting, WCC coating, Metal coating | |
| PlASMA SOURCE 1 | Ion Beam source | Source size - 380 x 110 mm or 840 x 100 mm |
| PlASMA SOURCE 2 | Sputter source | Souce size - 400 X 115 mm or 880 X 115mm |
| CHAMBER SIZE | Batch type | H 1000 x Φ 1000mm or H600 x Φ 800mm |
| PRODUCT LOADING | Vertical type | Rovolution and rotation |
| PROCESS CONTROL | PC Window control | Full automatic process and process data store |
- APPLICATION
- DLC coting, WCC coating, Metal coating
- PlASMA SOURCE 1
- Ion Beam source
- Source size - 380 x 110 mm or 840 x 100 mm
- PlASMA SOURCE 2
- Sputter source
- Souce size - 400 X 115 mm or 880 X 115mm
- CHAMBER SIZE
- Batch type
- H 1000 x Φ 1000mm or H600 x Φ 800mm
- PRODUCT LOADING
- Vertical type
- Rovolution and rotation
- PROCESS CONTROL
- PC Window control
- Full automatic process and process data store