NESS's TECHNOLOGY
이온 소스를 이용한 공정을 개발, 저온에서도 코팅이 가능한 저온코팅 기술력
일반적인 플라즈마 코팅 장비에서는 온도가 높아 질수록 플라즈마를 형성하는 이온과 표면과의 반응 속도가 빨라지며 반응 속도의 증가는 확산반응이나 이온의 이동도에 긍정적인 영향을 주게 된다. 이러한 영향은 아레니우스식 등 다양한 원리로 증명 되었다. 이러한 원리를 이유로 진공 증착 시 분위기 온도를 400℃ 이상 높여 증착 하는 경우가 많이 있었다. 그러나 고온 코팅은 모재의 변형과 파괴의 가능성이 있으며 결국 코팅 모재가 금속으로 한정된다.네쓰에서는 이러한 단점을 해결하기 이온 소스를 이용한 공정을 개발하여 저온에서도 코팅이 가능하도록 하였다.
코팅종류 | Plasma 코팅 시 챔버 내 온도 |
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DLC / WCC / CrN | 70℃ ~ 110℃ |
TiN / TiSiN / AlCrN | 200℃ ~ 250℃ |