COATING SYSTEM

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플라즈마 솔루션 및 코팅서비스를 제공하겠습니다.

코팅시스템

COATING SYSTEM

PECVD System

CVD 공법을 이용한 표면처리 및 DLC, Si-DLC 등의 박막을 코팅하는 시스템

진공 Chamber 내부에 소량의 고순도 가스(주로 반응성 가스)를 흐르게 하고 동시에 전극부분에 높은 전기장(수백~수천 V)을 가한다. 전극부와 Chamer 사이에 고순도 가스가 분해 및 반응을 통하여 플라즈마가 발생한다. 전극부에서 발생한 플라즈마를 활용되어 박막이 형성된다. 높은 전기장을 발생하는 전원 장치는 Rf power, Pulsed power이 활용되고 있다.

SPECIFICATIONS

APPLICATION DLC,Si-DLC coating
PlASMA POWER Rf Power with matching box
CHAMBER SIZE Batch type H 600 x Φ 800mm
PRODUCT LOADING Horicontal type Rotation
PROCESS CONTROL PC Window control Full automatic process and process data store
  • APPLICATION
  • DLC,Si-DLC coating
  • PlASMA POWER
  • Rf Power with matching box
  • CHAMBER SIZE
  • Batch type
  • H 600 x Φ 800mm
  • PRODUCT LOADING
  • Horizontal type
  • Rotation
  • PROCESS CONTROL
  • PC Window control
  • Full automatic process and process data store